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紫光学大股票行情最新消息(哪种交换机好用)

1、紫光学大股票行情最新消息,哪种交换机好用?

看到楼主这个问题,没有具体的使用环境,怎么能说那种交换机好。非要选一个的话,目前来说外国思科的国内的华为和H3C的都不错(可以说是全球行业数一数二的),就你提的问题我来具体分析下:

1.企业用(或小型办公室100人上下)。

以整个网络作为汇聚层来说

思科用: 思科WS-C2960L-48TS-LL 位为:4000元整

来看下参数分析:

可以看到二个最重要的参数:

背板带宽:也叫交换带宽。是指接口处理器或接口卡和数据总线间所能吞吐的最大数据量,这个是240Gbps

包转发率:也就是每秒钟内所能转发的数据包个数。这个为77.38MPPS

还有端口是48个,是全千兆网口,计算下如果这个机器全满载带机千兆的话,约能带120台左右(全部端口都用上,全双工模式下,极限性能模式)。所以这个能肯定是能满足100台机器的正常通信还有多。

H3C用:S5120V2-28P-SI 24 2000元整。

来看下参数分析:

背板带宽:336Gbps 包转发率:66MPPS带机大约为150台上下(全千兆,全双工模式下)。

所以这个也是能满足日常对付100个点的终端的。

2.家里用。

这个话。没有什么大的要求 ,只要能满足日常上网交换机不卡就行

这个可以推荐TP-LINK、H3C、水晶、等等家里傻瓜级交换机。即插即用就行,别的什么也不用设置。这个是能满足家庭用的。

对于家用的选型,注意以下几点就可以,看下是要用千兆的还是百兆。选5口的还是8口的,其它就是看外观和价钱。对家里性能上基本只要是一个正常能用的交换机都是能满足的。

以上就是我的回答。希望能帮到你,更多学习资料,请关注,如果您有好的建议欢迎评论区留言哦。

2、中国高端光刻机技术现在如何?

世界顶级的光刻技术是5纳米,实用产业阶段的是7纳米,美国和日本自己过去研制的达到14纳米,但是已经放弃了继续研发的想法,我们的多种原因的影响,直到这一两年来取得了突破,已经达到了22纳米级别,算是在世界上属于第三梯队的存在,跟先进的还是有不小的差距,这一点不得不面对现实。

去年年底跟荷兰方面谈拢了购买荷兰7纳米级别的光刻机,荷兰方面口头答应了卖给我们,只是在后来这家公司仓库突然异常失火,加上这几天突然宣布顾及到美国的感受,所以暂停售卖我们光刻机,虽然说第二天又改了一个说法是重新申请出口许可的原因,其实意思很明显就是想卖卖不出来,不想得罪美国又不想失去中国市场不想引起中国方面的反感,所以就换了一个好听一点的理由而已。

核心技术我们仍然被卡脖子,不能把科技希望寄托到别人身上,特别是这种现实应用型尖端设备,对科技发展影响巨大的东西,更应该掌握在自己手中比较好,有求于别人其实是非常被动的,要看别人的心情和脸色,这种感觉是相当不舒服和憋屈的,知耻后勇发奋图强是我们现在最需要做的一件事,自己不能掌握先进技术永远会是被动的无奈的。

光刻机技术的难点来自三个方面,一个是稳定的光源,一个是稳定和精密度极高的工作平台,一个是光刻机的镜头镜片工艺,这三个是影响光刻机突破的最大难度,光源还好说,我们国内的激光技术非常厉害,对于光刻机的稳定光源其实难度并不是特别大,我们的问题出现在镜片和工作台的精密度上面。

这就要涉及到了尖端精密机床加工工艺,和材料学上面了,镜片打磨需要非常精密的加工工艺才行,荷兰光刻机上的镜片就是德国提供的,有科学家曾经说过,光刻机镜片的平整度要求极高,就好比把镜片放大到200平方公里的面积,表面的不平度要在十厘米以内,这是什么样一个概念可想而知,要多厉害的精密机床才能做出来,而我们缺少的就是这种机床。

国内的机床水平其实跟日德美还是有差距的,这也是导致了许多的东西被卡脖子,还有就是在材料工艺的处理上面,在这上面其实也是影响巨大的,虽然说我们已经突破了22纳米,但是离7纳米还有两个级别的差距,不要小看这两个级别,差距比较大的,更不用说5纳米级别了,所以说我们需要努力的地方还很多,不过相信我们的聪明才智,别人能做到的我们也一定能,只是需要一点时间,还需要花更多的心思才行。

3、半导体相关股票还可以继续上涨吗?

从时间阶段上看,短期可能还需盘整震荡,在前期高位平台之间进行磨底筑底,调整目标标的股筹码水平;中长期来看,很有可能会震荡向上趋势!

具体分析:

第一,就不得不提新冠疫情对半导体行业的影响,简而言之,短空长多;

第二,由于第一点的影响,电子元器件及周边领域行业优秀企业将井喷式增长,今后半导体材料、制造、封测等需求量将更能更加庞大,无疑是长线利多;

第三,中美经贸之间的摩擦以及美国对我国进行的高科技产品的管制及限制措施将更为严格,半导体行业的国产替代进程步伐将是不可逆的,因此对国内半导体相关企业又是一个长利多;

第四,国家推出的新基建只要集中在5G、数据中心、云计算等新型行业,而这些领域更是需要半导体行业的发展来进行支撑与提升的!

因此,我个人认为半导体相关股票在今后的一段时间会存在一定程度的涨幅,但是这个时间应该是比较不确定和无法预估的,要根据现今外部环境的发展来具体分析的,但长期价格上升大趋势是不会改变的!

另外还需要持续关注美国费城半导体指数,其实不管我国的5G技术是多么厉害,以现阶段事实来看,美国半导体产业技术终究还是世界领头羊,它的半导体上中下游产业结构是相当完备的,所以要想在A股的半导体股票获得收益还是建议大家多多关注下美国费城半导体指数的数据趋势,它是我国内的半导体行业的晴雨风向标!

自己的一些拙见还请笑纳谅解!多提宝贵意见 谢谢!

4、难道紫光U盘真这么差?

因为紫光U盘,并不是紫光公司自己生产的,而是他授权下面的公司为代理他们自己去生产、销售,为了拼价格所以质量就下来了,建议以后不要用紫光的U盘、MP3、移动硬盘。

5、光刻机的未来是什么?

光刻机一直是被人们称作现代光学的工业之花。厂商要研发并制造出光刻机,需要投入非常高的资金资源和人力资源,这使得半导体设备行业中只有极少数的几家厂商能够制造光刻机。伴随着半导体行业的洗牌和日系厂商的没落,现在也仅有荷兰ASML(阿斯麦)为人类扛起了光刻技术的大梁。ASML被人们认为是一家集西方光学工业应用科学和半导体尖端制造设备技术于一体的高科技企业。ASML积累起的专利技术,以及在半导体及其相关行业中的影响力,是其他任何一家半导体厂商都没法忽视的。

一方面,从2016年第3季到2017年第3季,ASML的净销售额是逐个季度递增。在这近5个季度中,ASML的毛利率高到了什么样的程度?介于40%到50%之间!当然,ASML在这近5个季度中,还维持着20%到30%的净利润率。另一方面,仅仅是在2017年第2、3两个季度中,ASML向厂商们供应的技术产品中,KrF和ArF这两类光刻机的销售价值比重之和超过了70%,EUV光刻机的价值比重相对地还不算大。并且,ASML的客户主要来自于中国台湾省、韩国和美国的厂商。值得补充的是,2017年第1季,ASML向厂商提供的技术产品中,KrF和ArF光刻机的价值比重之和差不多为90%,且无EUV光刻机,中国大陆、中国台湾省、韩国和美国的厂商是ASML的主要客户。

无论是半导体材料行业,还是半导体设备行业,基本上都是被国外厂商所垄断。在半导体材料行业中,从2016年至今,日系厂商信越半导体和胜高科技在硅晶圆片市场中合计占有过半的市场份额,掩膜板市场基本上是被美国福尼克斯、日本印刷株式会社DNP和日本凸版印刷株式会社Toppan三家所垄断,光刻胶的核心技术依然由美、日厂商掌握,CMP材料市场被美国陶氏化学垄断。在半导体设备行业中,美国厂商研制的热处理、镀膜设备和离子注入设备等半导体设备在业界中处于领先的地位,日本厂商研发和生产的刻蚀设备、涂胶设备、显影机和测试设备等半导体设备在行业中有着突出的表现,ASML研发和制造的光刻机,尤其是高端光刻机,已然是行业中的第一名。2016年,半导体设备行业中的前十大厂商中,ASML便排在了第三的位置。

光刻机行业中原本有ASML、日本尼康和日本佳能三家巨头。在193纳米技术成为行业的主流技术后,ASML凭借自身的技术和产品优势,逐渐地甩开了尼康和佳能等竞争对手。之后,随着台积电、三星和英特尔等芯片制造厂商争相推进制程工艺朝着更尖端的方向发展,这些芯片制造厂商都将不得不用到更先进的光刻机。于是,EUV光刻机被芯片制造厂商寄予厚望。早在2012年,ASML为了加快研发EUV光刻机和18英寸硅晶圆片,便想到了邀请自己的主要客户也参与到该投资和研发计划中来。随即,台积电、三星和英特尔均积极地参与到了该计划中来。台积电向ASML投资8.38亿欧元、三星向ASML投入5.03亿欧元,英特尔向ASML投资最多,为25.13亿欧元。

(注释:EUV光刻机的技术原理图。)

实际上,台积电、三星和英特尔这三大芯片制造厂商在当时也都是没得选,因为尼康和佳能等厂商肯定是不具备研发可用于7纳米制程工艺节点的EUV光刻机,反而只有ASML是最有可能研发出该光刻机出来。三大芯片制造厂商个个心知肚明,假如连在光刻机设备行业中排名第一的ASML都没能成功地研发出EUV光刻机,那么其他厂商更是没有可能开发出EUV光刻机。倘若ASML研发EUV光刻机获得了成功,那么三家芯片制造巨头向ASML投入的资金在后面不但能收回来,还能再赚上一大笔。现如今人们都看到了,ASML没有辜负众厂商们的希望,业已研制出了商用的EUV光刻机。单台EUV光刻机的售价贵到1亿多欧元,相当于是一架F35隐身战斗机的价格。

ASML于1984年在荷兰成立后至今,在市场中能够一路发展到今天的规模,肯定是克服了很多的艰难险阻的。ASML的员工总数已不下于1.4万人,其中包括了很多的尖端技术人才。ASML在16个国家总共设有70多个办事机构。ASML每年的人均研发经费,在欧洲算是数一数二的厂商,有人可能会想了,ASML为什么就能在光刻机行业中一路笑到最后?除开荷兰本身的半导体产业优势不谈外,有媒体业者在对ASML的专利技术数据做过分析后得出了这么两个结论。

第一,ASML凭借自有强大的技术研发能力在行业中获得更高的话语权。ASML一直保持着很高的研发投入,特别是对关键技术的研发和创新。ASML甚至还曾拉上台积电、三星和英特尔等客户,与自己一起来承担相关的研发费用(风险)。ASML的总部虽然位于荷兰,但ASML在各地的专利布局却很是值得人们思考。ASML在各地申请的专利数量,从高到低依次是美国、日本、中国台湾省、韩国和中国大陆,即ASML是依据自己的客户和竞争对手两个因素在各地展开专利布局的。

第二,ASML与上下游的厂商、机构展开合作,从而确保自己的技术研发得以稳步地向前推进。比如,ASML花费巨资买入行业中领先的准分子激光源供应商美国Cymer,ASML耗费巨资投资业界中领先的光学系统供应商德国卡尔蔡司,ASML与中国上海微电子建立合作伙伴关系。有媒体报道过,“光刻机技术决定了半导体行业能够发展到的上限,ASML出自荷兰的飞利浦,当年的飞利浦是业内有名的高度垂直整合厂商,样样是自己来做,最后却陷入到了重重困境中,ASML采用‘开放式创新’的研发模式,在半导体行业中取得了举足轻重的地位”。

(注释:EUV光刻技术专利申请量排名,卡尔蔡司第一,ASML第二,尼康第四、佳能第六。)

好了,最后就可以回答这个问题了,即今后ASML会被行业中的其他厂商打败吗?答案是,ASML有着强大到令人感到可怕的护城河,ASML在行业中基本处于绝对垄断的地位。这具体可以分成四点来说。一个是ASML已经掌握EUV光刻机的核心技术,这已经把其他对手更是远远地甩在了后面,未来有且只有ASML能够为厂商们供应EUV光刻机。二个是EUV光刻机的研发费用非常的高,这足以让其他厂商望而却步。三个是台积电、三星和英特尔等芯片制造巨头都和ASML有着十分紧密的合伙关系。四个是ASML和卡尔蔡是亲密的战略同盟,卡尔蔡司在自己所属的领域,是“寻遍天下无敌手”,即便是有另外的厂商要研发EUV光刻机,也几乎没可能绕开卡尔蔡司的光学系统技术。换种说法是,只要ASML始终保持着健康且稳健的运营,不犯下致命的错误,将来恐怕是再无其他厂商能打败ASML。至于EUV光刻机之后又会是什么光刻机?这个问题现在来讨论,没有太大的意义。估计的话,ASML恐怕都还不清楚,EUV光刻机在未来又会是被什么样的光刻机所取代。

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1、紫光学大股票行情最新消息,哪种交换机好用?

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1.企业用(或小型办公室100人上下)。

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思科用: 思科WS-C2960L-48TS-LL 位为:4000元整

来看下参数分析:

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背板带宽:也叫交换带宽。是指接口处理器或接口卡和数据总线间所能吞吐的最大数据量,这个是240Gbps

包转发率:也就是每秒钟内所能转发的数据包个数。这个为77.38MPPS

还有端口是48个,是全千兆网口,计算下如果这个机器全满载带机千兆的话,约能带120台左右(全部端口都用上,全双工模式下,极限性能模式)。所以这个能肯定是能满足100台机器的正常通信还有多。

H3C用:S5120V2-28P-SI 24 2000元整。

来看下参数分析:

背板带宽:336Gbps 包转发率:66MPPS带机大约为150台上下(全千兆,全双工模式下)。

所以这个也是能满足日常对付100个点的终端的。

2.家里用。

这个话。没有什么大的要求 ,只要能满足日常上网交换机不卡就行

这个可以推荐TP-LINK、H3C、水晶、等等家里傻瓜级交换机。即插即用就行,别的什么也不用设置。这个是能满足家庭用的。

对于家用的选型,注意以下几点就可以,看下是要用千兆的还是百兆。选5口的还是8口的,其它就是看外观和价钱。对家里性能上基本只要是一个正常能用的交换机都是能满足的。

以上就是我的回答。希望能帮到你,更多学习资料,请关注,如果您有好的建议欢迎评论区留言哦。

2、中国高端光刻机技术现在如何?

世界顶级的光刻技术是5纳米,实用产业阶段的是7纳米,美国和日本自己过去研制的达到14纳米,但是已经放弃了继续研发的想法,我们的多种原因的影响,直到这一两年来取得了突破,已经达到了22纳米级别,算是在世界上属于第三梯队的存在,跟先进的还是有不小的差距,这一点不得不面对现实。

去年年底跟荷兰方面谈拢了购买荷兰7纳米级别的光刻机,荷兰方面口头答应了卖给我们,只是在后来这家公司仓库突然异常失火,加上这几天突然宣布顾及到美国的感受,所以暂停售卖我们光刻机,虽然说第二天又改了一个说法是重新申请出口许可的原因,其实意思很明显就是想卖卖不出来,不想得罪美国又不想失去中国市场不想引起中国方面的反感,所以就换了一个好听一点的理由而已。

核心技术我们仍然被卡脖子,不能把科技希望寄托到别人身上,特别是这种现实应用型尖端设备,对科技发展影响巨大的东西,更应该掌握在自己手中比较好,有求于别人其实是非常被动的,要看别人的心情和脸色,这种感觉是相当不舒服和憋屈的,知耻后勇发奋图强是我们现在最需要做的一件事,自己不能掌握先进技术永远会是被动的无奈的。

光刻机技术的难点来自三个方面,一个是稳定的光源,一个是稳定和精密度极高的工作平台,一个是光刻机的镜头镜片工艺,这三个是影响光刻机突破的最大难度,光源还好说,我们国内的激光技术非常厉害,对于光刻机的稳定光源其实难度并不是特别大,我们的问题出现在镜片和工作台的精密度上面。

这就要涉及到了尖端精密机床加工工艺,和材料学上面了,镜片打磨需要非常精密的加工工艺才行,荷兰光刻机上的镜片就是德国提供的,有科学家曾经说过,光刻机镜片的平整度要求极高,就好比把镜片放大到200平方公里的面积,表面的不平度要在十厘米以内,这是什么样一个概念可想而知,要多厉害的精密机床才能做出来,而我们缺少的就是这种机床。

国内的机床水平其实跟日德美还是有差距的,这也是导致了许多的东西被卡脖子,还有就是在材料工艺的处理上面,在这上面其实也是影响巨大的,虽然说我们已经突破了22纳米,但是离7纳米还有两个级别的差距,不要小看这两个级别,差距比较大的,更不用说5纳米级别了,所以说我们需要努力的地方还很多,不过相信我们的聪明才智,别人能做到的我们也一定能,只是需要一点时间,还需要花更多的心思才行。

3、半导体相关股票还可以继续上涨吗?

从时间阶段上看,短期可能还需盘整震荡,在前期高位平台之间进行磨底筑底,调整目标标的股筹码水平;中长期来看,很有可能会震荡向上趋势!

具体分析:

第一,就不得不提新冠疫情对半导体行业的影响,简而言之,短空长多;

第二,由于第一点的影响,电子元器件及周边领域行业优秀企业将井喷式增长,今后半导体材料、制造、封测等需求量将更能更加庞大,无疑是长线利多;

第三,中美经贸之间的摩擦以及美国对我国进行的高科技产品的管制及限制措施将更为严格,半导体行业的国产替代进程步伐将是不可逆的,因此对国内半导体相关企业又是一个长利多;

第四,国家推出的新基建只要集中在5G、数据中心、云计算等新型行业,而这些领域更是需要半导体行业的发展来进行支撑与提升的!

因此,我个人认为半导体相关股票在今后的一段时间会存在一定程度的涨幅,但是这个时间应该是比较不确定和无法预估的,要根据现今外部环境的发展来具体分析的,但长期价格上升大趋势是不会改变的!

另外还需要持续关注美国费城半导体指数,其实不管我国的5G技术是多么厉害,以现阶段事实来看,美国半导体产业技术终究还是世界领头羊,它的半导体上中下游产业结构是相当完备的,所以要想在A股的半导体股票获得收益还是建议大家多多关注下美国费城半导体指数的数据趋势,它是我国内的半导体行业的晴雨风向标!

自己的一些拙见还请笑纳谅解!多提宝贵意见 谢谢!

4、难道紫光U盘真这么差?

因为紫光U盘,并不是紫光公司自己生产的,而是他授权下面的公司为代理他们自己去生产、销售,为了拼价格所以质量就下来了,建议以后不要用紫光的U盘、MP3、移动硬盘。

5、光刻机的未来是什么?

光刻机一直是被人们称作现代光学的工业之花。厂商要研发并制造出光刻机,需要投入非常高的资金资源和人力资源,这使得半导体设备行业中只有极少数的几家厂商能够制造光刻机。伴随着半导体行业的洗牌和日系厂商的没落,现在也仅有荷兰ASML(阿斯麦)为人类扛起了光刻技术的大梁。ASML被人们认为是一家集西方光学工业应用科学和半导体尖端制造设备技术于一体的高科技企业。ASML积累起的专利技术,以及在半导体及其相关行业中的影响力,是其他任何一家半导体厂商都没法忽视的。

一方面,从2016年第3季到2017年第3季,ASML的净销售额是逐个季度递增。在这近5个季度中,ASML的毛利率高到了什么样的程度?介于40%到50%之间!当然,ASML在这近5个季度中,还维持着20%到30%的净利润率。另一方面,仅仅是在2017年第2、3两个季度中,ASML向厂商们供应的技术产品中,KrF和ArF这两类光刻机的销售价值比重之和超过了70%,EUV光刻机的价值比重相对地还不算大。并且,ASML的客户主要来自于中国台湾省、韩国和美国的厂商。值得补充的是,2017年第1季,ASML向厂商提供的技术产品中,KrF和ArF光刻机的价值比重之和差不多为90%,且无EUV光刻机,中国大陆、中国台湾省、韩国和美国的厂商是ASML的主要客户。

无论是半导体材料行业,还是半导体设备行业,基本上都是被国外厂商所垄断。在半导体材料行业中,从2016年至今,日系厂商信越半导体和胜高科技在硅晶圆片市场中合计占有过半的市场份额,掩膜板市场基本上是被美国福尼克斯、日本印刷株式会社DNP和日本凸版印刷株式会社Toppan三家所垄断,光刻胶的核心技术依然由美、日厂商掌握,CMP材料市场被美国陶氏化学垄断。在半导体设备行业中,美国厂商研制的热处理、镀膜设备和离子注入设备等半导体设备在业界中处于领先的地位,日本厂商研发和生产的刻蚀设备、涂胶设备、显影机和测试设备等半导体设备在行业中有着突出的表现,ASML研发和制造的光刻机,尤其是高端光刻机,已然是行业中的第一名。2016年,半导体设备行业中的前十大厂商中,ASML便排在了第三的位置。

光刻机行业中原本有ASML、日本尼康和日本佳能三家巨头。在193纳米技术成为行业的主流技术后,ASML凭借自身的技术和产品优势,逐渐地甩开了尼康和佳能等竞争对手。之后,随着台积电、三星和英特尔等芯片制造厂商争相推进制程工艺朝着更尖端的方向发展,这些芯片制造厂商都将不得不用到更先进的光刻机。于是,EUV光刻机被芯片制造厂商寄予厚望。早在2012年,ASML为了加快研发EUV光刻机和18英寸硅晶圆片,便想到了邀请自己的主要客户也参与到该投资和研发计划中来。随即,台积电、三星和英特尔均积极地参与到了该计划中来。台积电向ASML投资8.38亿欧元、三星向ASML投入5.03亿欧元,英特尔向ASML投资最多,为25.13亿欧元。

(注释:EUV光刻机的技术原理图。)

实际上,台积电、三星和英特尔这三大芯片制造厂商在当时也都是没得选,因为尼康和佳能等厂商肯定是不具备研发可用于7纳米制程工艺节点的EUV光刻机,反而只有ASML是最有可能研发出该光刻机出来。三大芯片制造厂商个个心知肚明,假如连在光刻机设备行业中排名第一的ASML都没能成功地研发出EUV光刻机,那么其他厂商更是没有可能开发出EUV光刻机。倘若ASML研发EUV光刻机获得了成功,那么三家芯片制造巨头向ASML投入的资金在后面不但能收回来,还能再赚上一大笔。现如今人们都看到了,ASML没有辜负众厂商们的希望,业已研制出了商用的EUV光刻机。单台EUV光刻机的售价贵到1亿多欧元,相当于是一架F35隐身战斗机的价格。

ASML于1984年在荷兰成立后至今,在市场中能够一路发展到今天的规模,肯定是克服了很多的艰难险阻的。ASML的员工总数已不下于1.4万人,其中包括了很多的尖端技术人才。ASML在16个国家总共设有70多个办事机构。ASML每年的人均研发经费,在欧洲算是数一数二的厂商,有人可能会想了,ASML为什么就能在光刻机行业中一路笑到最后?除开荷兰本身的半导体产业优势不谈外,有媒体业者在对ASML的专利技术数据做过分析后得出了这么两个结论。

第一,ASML凭借自有强大的技术研发能力在行业中获得更高的话语权。ASML一直保持着很高的研发投入,特别是对关键技术的研发和创新。ASML甚至还曾拉上台积电、三星和英特尔等客户,与自己一起来承担相关的研发费用(风险)。ASML的总部虽然位于荷兰,但ASML在各地的专利布局却很是值得人们思考。ASML在各地申请的专利数量,从高到低依次是美国、日本、中国台湾省、韩国和中国大陆,即ASML是依据自己的客户和竞争对手两个因素在各地展开专利布局的。

第二,ASML与上下游的厂商、机构展开合作,从而确保自己的技术研发得以稳步地向前推进。比如,ASML花费巨资买入行业中领先的准分子激光源供应商美国Cymer,ASML耗费巨资投资业界中领先的光学系统供应商德国卡尔蔡司,ASML与中国上海微电子建立合作伙伴关系。有媒体报道过,“光刻机技术决定了半导体行业能够发展到的上限,ASML出自荷兰的飞利浦,当年的飞利浦是业内有名的高度垂直整合厂商,样样是自己来做,最后却陷入到了重重困境中,ASML采用‘开放式创新’的研发模式,在半导体行业中取得了举足轻重的地位”。

(注释:EUV光刻技术专利申请量排名,卡尔蔡司第一,ASML第二,尼康第四、佳能第六。)

好了,最后就可以回答这个问题了,即今后ASML会被行业中的其他厂商打败吗?答案是,ASML有着强大到令人感到可怕的护城河,ASML在行业中基本处于绝对垄断的地位。这具体可以分成四点来说。一个是ASML已经掌握EUV光刻机的核心技术,这已经把其他对手更是远远地甩在了后面,未来有且只有ASML能够为厂商们供应EUV光刻机。二个是EUV光刻机的研发费用非常的高,这足以让其他厂商望而却步。三个是台积电、三星和英特尔等芯片制造巨头都和ASML有着十分紧密的合伙关系。四个是ASML和卡尔蔡是亲密的战略同盟,卡尔蔡司在自己所属的领域,是“寻遍天下无敌手”,即便是有另外的厂商要研发EUV光刻机,也几乎没可能绕开卡尔蔡司的光学系统技术。换种说法是,只要ASML始终保持着健康且稳健的运营,不犯下致命的错误,将来恐怕是再无其他厂商能打败ASML。至于EUV光刻机之后又会是什么光刻机?这个问题现在来讨论,没有太大的意义。估计的话,ASML恐怕都还不清楚,EUV光刻机在未来又会是被什么样的光刻机所取代。