光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。...

光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。...

光活性组分(PAC)本发明的组合物含有至少一种光活性组分(PAC)，该组分通常是在曝露在光化辐射中时产生酸或碱的化合物。...

光活性组分(PAC)本发明的组合物含有至少一种光活性组分(PAC)，该组分通常是在曝露在光化辐射中时产生酸或碱的化合物。...

光活性组分(PAC)本发明的组合物含有至少一种光活性组分(PAC)，该组分通常是在曝露在光化辐射中时产生酸或碱的化合物。...

光活性组分(PAC)本发明的组合物含有至少一种光活性组分(PAC)，该组分通常是在曝露在光化辐射中时产生酸或碱的化合物。...